Filtracja o wysokiej czystości do produkcji ultraczystych półprzewodników
Opis
Filtr gazowy o wysokim przepływie – zaprojektowany specjalnie do filtracji gazów procesowych o ultrawysokiej czystości w produkcji półprzewodników. Precyzyjnie wykonany ze stali nierdzewnej 316L, charakteryzuje się wielokolumnową lub warstwową konstrukcją z wkładem filtracyjnym, co zapewnia niski opór przy wysokich natężeniach przepływu, a dokładność filtracji sięga 0,003 μm, spełniając wymagania dotyczące ultrawysokiej czystości. Całkowicie metalowa konstrukcja sprawia, że jest to idealne rozwiązanie filtracyjne do środowisk o wysokiej temperaturze i dynamicznych zmianach.
Cechy produktu
▶Cała konstrukcja ze stali nierdzewnej 316L— Zapewnia trwałość i odporność na korozję.
▶Wysoki przepływ, niski opór— Zoptymalizowane pod kątem dużego przepływu przy minimalnej stracie ciśnienia.
▶Ultrawysoka wydajność retencji cząstek— Doskonale nadaje się do utrzymania warunków ultraczystych.
▶Odporny na wysokie temperatury, ciśnienie i korozję— Nadaje się do pracy w trudnych warunkach.
▶Kompatybilny z różnymi gazami procesowymi— Wszechstronny, nadaje się do wielu zastosowań przemysłowych.
▶Idealne do produkcji, testowania i pakowania w pomieszczeniach czystych— Doskonale nadaje się do stosowania w kontrolowanych środowiskach.
▶100% testowanie integralności— Każdy filtr przechodzi kompleksowe testy integralności w celu zapewnienia jakości.
▶100% test szczelności helem— Zweryfikowane za pomocą testu szczelności helem w celu zapewnienia niezawodności w krytycznych zastosowaniach.
Arkusz danych
Parametry techniczne
| Parametr | Specyfikacja |
|---|---|
| Materiał elementu filtrującego | Stal nierdzewna 316L spiekana proszkowo |
| Materiał obudowy | Stal nierdzewna 316L |
| Maksymalne ciśnienie wlotowe | 207 bar |
| Maksymalna różnica ciśnień roboczych | 5,2 bara |
| Współczynnik wycieku helu weryfikowany | 2 x 10⁻¹⁰ cm3/min |
| Badanie szczelności helu | 1 x 10⁻¹⁰ cm3/min |
| Obróbka powierzchni | |
| Powierzchnia zewnętrzna | Ra < 1,6 μm |
| Powierzchnia wewnętrzna | Ra < 0,2 μm |
| Maksymalna temperatura pracy | |
| Gaz obojętny | 400-500℃ |
| Gaz żrący i reaktywny | 50℃ |
| Efektywność retencji cząstek | ≥99,9999999% (9LRV) przy 30 slpm |
| Czystość w dół rzeki | ≤0,03 cząstek/litr przy > 0,01 μm, 30 slpm |
| Rozmiar retencji cząstek | ≥0,003 μm |
Rozmiar
Oto numer części, którą możesz zamówić i szczegóły dotyczące rozmiaru:
| Model produktu | Materiał elementu filtrującego | Dokładność filtracji (μm) | Typ połączenia |
|---|---|---|---|
| Z01B-00647 | Stal nierdzewna 316L | 10~0,003 | 1/4” |
| Z01B-00648 | Stal nierdzewna 316L | 10~0,003 | 1/2” |
| Z01B-00649 | Stal nierdzewna 316L | 10~0,003 | 1/8” |
| Z01B-00650 | Stal nierdzewna 316L | 10~0,003 | 1” |
| Możliwość dostosowania | Stal nierdzewna 316L | 10~0,003 | W razie potrzeby |
Typowe zastosowania
niektóre typowe zastosowaniaFiltry zbiorcze i użytkowe o wysokiej czystościIFiltry strumienia przepływu gazu na płycie gazowej:
1. Produkcja półprzewodników
*Zapewnia dostawę ultraczystego gazu do procesów produkcji płytek półprzewodnikowych, trawienia i osadzania chemicznego z fazy gazowej (CVD).
*Zapewnia wysoką czystość w systemach dystrybucji gazu luzem dla azotu, argonu i innych gazów nośnych.
2. Produkcja farmaceutyczna
*Zapewnia sterylny i wolny od cząstek gaz dla krytycznych środowisk produkcyjnych.
*Obsługuje filtrację o wysokiej czystości w pomieszczeniach czystych i środowiskach kontrolowanych w celu zachowania integralności produktu.
3.Systemy gazów laboratoryjnych
*Stosowany w laboratoriach do oczyszczania strumieni gazów w sprzęcie analitycznym, takim jak chromatografia gazowa i spektrometria masowa.
*Zapewnia wysoką czystość gazów do zastosowań badawczych i testowych, chroniąc wrażliwe urządzenia.
4. Przetwórstwo żywności i napojów
*Filtruje CO₂ i inne gazy wykorzystywane w procesie nasycania dwutlenkiem węgla, pakowania i przechowywania, zapewniając bezpieczeństwo i jakość żywności.
*Zapewnia dostawy gazu wolnego od zanieczyszczeń w zakładach przetwórczych, w szczególności w przypadku hurtowych dostaw gazu.
5.Przemysł naftowy i gazowy
*Oczyszcza strumienie gazu ziemnego w filtrze gazowym, usuwając zanieczyszczenia przed składowaniem lub transportem.
*Chroni urządzenia znajdujące się dalej w układzie poprzez usuwanie cząstek stałych, wilgoci i zanieczyszczeń w układach przepływu gazu pod wysokim ciśnieniem.
6. Produkcja chemiczna
*Filtruje gazy użytkowe, takie jak azot i argon, stosowane w syntezie chemicznej i reakcjach.
*Utrzymuje czystość gazu zapobiegając zanieczyszczeniom i niespójnościom reakcji.
7. Lotnictwo i obronność
*Dostarcza gazy o wysokiej czystości do środowisk produkcyjnych i testowych dla materiałów i komponentów lotniczych.
*Zapewnia stałą czystość gazu w kontrolowanych środowiskach podczas montażu sprzętu lotniczego i obronnego.
8. Produkcja energii (elektrownie)
*Filtruje gazy wysokociśnieniowe w zastosowaniach chłodniczych i procesowych, szczególnie w miejscach, w których występują wysokie temperatury.
*Zwiększa wydajność i zmniejsza zużycie sprzętu, zapobiegając zanieczyszczeniom w układach chłodzenia gazu i przepływowych.
Te fFiltry są niezbędne w każdej aplikacji wymagającej czystego i stałego przepływu gazu, zwiększając ochronę sprzętu,
wydajność procesów i jakość produktu końcowego w różnych branżach.
Wyślij nam swoją wiadomość:
